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挑戰:制造整體尺寸精細到毫米,與此同時包含幾十納米的精細結構,同時能保持優等的光表面質量。 解決方案:系統能在不受限的工作區域內進行精確定位(1nm),來完成無拼接偏差的毫米結構制造。低粗糙度的內部表層以...
挑戰:
制造整體尺寸精細到毫米,與此同時包含幾十納米的精細結構,同時能保持優等的光表面質量。
解決方案:
系統能在不受限的工作區域內進行精確定位(1nm),來完成無拼接偏差的毫米結構制造。低粗糙度的內部表層以及低的收縮比能保證在較大表層加工后光表面質量。
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